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Processi produttivi per l'elettronica
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Pagine nella categoria "Processi produttivi per l'elettronica"
Questa categoria contiene le 66 pagine indicate di seguito, su un totale di 66.
Film sottile
Tecnologia microelettronica
0–9
1 µm
1.5 µm
3 µm
5 nm
7 nm
10 nm
10 µm
14 nm
22 nm
32 nm
45 nm
65 nm
90 nm
130 nm
180 nm
250 nm
350 nm
600 nm
800 nm
A
Arseniuro di indio
B
Bromografo
C
Camera bianca
Clock gating
Collegamento su wafer
Corrente indotta da fascio ottico
D
Deposizione chimica da fase vapore del diamante
Drogaggio
Drogaggio per diffusione termica
E
Edge triggered
Elettromigrazione
F
Fascio ionico focalizzato
Flussante
Fosfuro di indio
Foveon X3
FR2 (materiale)
FR4 (materiale)
G
Granato di ittrio e alluminio
I
Impiantazione ionica
Incisore a getto
Incisore al plasma
L
Linea a microstriscia
Linea a striscia
Linea a striscia ad aria
Litografia (elettronica)
Litografia ultravioletta estrema
M
Magnetic tunneling junction
Miniaturizzazione
O
OTFT
P
Processo Czochralski
R
Registrazione perpendicolare
Rivestimento per immersione
Rivestimento per rotazione
S
Saliciuro
Shingled magnetic recording
SiPM
Spinplasmonica
T
Tecnologia a montaggio superficiale
Tecnologia through-hole
Thin Film Transistor
V
Vetronite
Via (elettronica)
W
Wafer (elettronica)
Whisker
X
Xerografia
