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Grand Gateway Shanghai

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Il Grand Gateway Shanghai (in cinese 港 汇 广场; pinyin Gǎnghuì Guǎngchǎng) è un complesso costituito da due grattacieli gemelli situato nella zona di Xujiahui a Shanghai, in Cina. Progettato dallo studio Callison,[1] gli edifici sono stati completati nel 2005.

Grand Gateway Shanghai
Localizzazione
StatoBandiera della Cina Cina
Coordinate31°11′47.4″N 121°25′57″E
Informazioni generali
CondizioniIn uso
Usomisto
Piani52
Realizzazione
ArchitettoCallison

Note

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  1. ^ https://books.google.com/books?id=Lcir7wwIzhIC&pg=PA136&lpg=PA136&dq=%22Grand+Gateway%22+Shanghai&source=bl&ots=Mrcvs79904&sig=mtW8VNTlJX0z2liFQaE8nLx8tKM&hl=en&sa=X&ei=jAw0UJGwJYX80QWanYDgBQ&ved=0CDEQuwUwAA#v=onepage&q=%22Grand%20Gateway%22%20Shanghai&f=false

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