File:CMOS fabrication process.svg
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Dettagli
| Descrizione |
English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale. |
| Data | |
| Fonte | Opera propria |
| Autore | |
| Altre versioni |
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| Data/Ora | Miniatura | Dimensioni | Utente | Commento | |
|---|---|---|---|---|---|
| attuale | 18:29, 9 ott 2011 | | 512 × 2 176 (7 KB) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is |
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