Very large scale integration: differenze tra le versioni

Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
frase vecchia, aggiorno
ristabilisco frase, aggiornando.
Riga 4:
 
La prima generazione di computer utilizzava [[valvola termoionica|valvole termoioniche]]. In seguito si iniziarono ad utilizzare i primi transistor e in seguito i chip con più transistor. La prima generazione era la generazione Small-Scale Integration (SSI) che integrava un ridotto numero di componenti come [[diodo|diodi]], [[resistenza elettrica|resistenze]], [[Capacità elettrica|capacità]] e ovviamente transistor in un singolo chip. Questa tecnologia consentiva di realizzare [[porta logica|porte logiche]]. In seguito la tecnologia Large-Scale Integration (LSI) permise la realizzazione di molte porte logiche in un singolo chip. La tecnologia VLSI permetteva un'integrazione almeno dieci volte maggiore della LSI. L'attuale tecnologia consente l'integrazione di decine di milioni di porte logiche in un singolo chip.
Allo stato attuale ([[2012]]) la tecnologia di punta è in grado di integrare fino a 4,3 miliardi di transistor in un singolo chip, come nel caso della scheda grafica [[AMD Radeon HD 7000 series|Radeon HD 7970]]. La dimensione dei transistor è di 32 [[nanometro|nanometri]] nel migliore dei casi anche se la maggior parte dei microprocessori sono a 45 nanometri mentre in laboratorio si riesce a scendere fino a [[16 nm]].
 
Con la continua evoluzione dei procedimenti produttivi si sono cercate di imporre altre denominazioni tecnologiche successive alla VLSI come la ''Ultra-large scale integration'' (ULSI) ma queste denominazioni non hanno avuto successo. Allo stato attuale tutti i chip ad alta tecnologia sono costruiti in tecnologia VLSI o migliore, non si sono diffuse denominazioni successive anche perché ormai si tende a specificare direttamente la dimensione minima dei transistor per indicare la tecnologia costruttiva del chip.