Fotoresist: differenze tra le versioni
Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
m r2.7.3) (Bot: Modifico ms:Fotorintang |
fix link |
||
Riga 3:
Il '''photoresist''' è usato in [[elettronica]] e nel campo delle nanotecnologie per la produzione di [[microchip]] e sistemi MEMS/MOEMS. È oltretutto anche utilizzato per predisporre le basette ramate alla [[fotoincisione]], molto usata per la produzione di [[circuiti stampati]].
Il photoresist ha la proprietà di poter essere rimosso facilmente dalla [[Idrossido di sodio|soda caustica]] nel caso venga impressionato dai [[Raggi ultravioletti|raggi UV-A]]; inoltre è molto resistente alla corrosione da parte del [[cloruro ferrico]] se non impressionato.
Il comune photoresist viene venduto in bombolette, in modo da poterlo spruzzare sulla basetta ramata; una volta spruzzato in modo uniforme va messo a riposare a bassa temperatura.
| |||