Fotoresist: differenze tra le versioni

{{S|polimeri}}

Il '''fotoresist''' è usato in [[elettronica]] e nel campo delle nanotecnologie per la produzione di [[microchip]] e sistemi MEMS/MOEMS. È oltretutto anche utilizzato per predisporre le basette ramate alla [[fotoincisione]], molto usata per la produzione di [[circuiti stampati]].

 

Il photoresist ha la proprietà di poter essere rimosso facilmente dalla [[Idrossido di sodio|soda caustica]] nel caso venga impressionato dai [[Raggi ultravioletti|raggi UV-A]]; inoltre è molto resistente alla corrosione da parte del [[cloruro ferrico]] se non impressionato.