La '''litografia''' (chiamata anche '''elettrolitografia''' in caso di uso di un [[fascio ionico]], '''EBL''' o '''litografia a fascio elettronico''' nel caso di impiego di un fascio di elettroni e '''litografia ottica''' o '''fotolitografia''' quando ci si avvale invece di una [[Radiazione ultravioletta|luce ultravioletta]], nomenclatura quest'ultima che crea però un'ambiguità con l'[[Litografia|omonima tecnica di stampa delle immagini fotografiche]]) è un processo di [[fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore|fabbricazione di dispositivi a semiconduttore]], che include tutti i processi che sagomano o alterano le forme preesistenti sul materiale depositato. La regione non esposta viene rimossa dalla soluzione di sviluppo. Dopo l'etching ed altri possibili processi, il restante photoresist viene rimosso a secco mediante incenerimento in [[plasma (fisica)|plasma]] (dall'inglese ''plasma ashing'') o più semplicemente dissolvendolo in un opportuno solvente.
== Processo di fabbricazione ==
In questa sezione vengono descritte le principali fasi di un processo litografico.
