Litografia (elettronica): differenze tra le versioni

La '''litografia''' è un processo di [[fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore|fabbricazione di dispositivi a semiconduttore]], che include tutti i processi che sagomano o alterano le forme preesistenti sul materiale depositato. Per esempio, nella litografia convenzionale, il 'wafer' viene ricoperto tramite [[rivestimento per rotazione]] con una sostanza chimica fotosensibile detta [[photoresist]]. Il photoresist viene esposto mediante delle macchine opportune, dette mask-aligner o stepper, che allineano delle maschere (in genere di quarzo), focalizzano la radiazione ed espongono il photoresist ad una [[radiazione ultravioletta]] di [[lunghezza d'onda]] opportuna. La regione non esposta viene rimossa dalla soluzione di sviluppo. Dopo l'etching ed altri possibili processi, il restante photoresist viene rimosso a secco mediante incenerimento in [[plasma (fisica)|plasma]] (dall'inglese ''plasma ashing'') o più semplicemente dissolvendolo in un opportuno solvente.